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第515章 稀土需求的第一次暴增(第1页)

国内的基建速度每每能让人震动。

哪怕他这个磁悬浮列车的方案提出者,对于磁悬浮列车示范区的建设速度也极为震惊。

铁道部从去年起就憋着口气,如今的建设速度极为夸张。

尤其是年初奉天市第一机床厂终于完成了五轴五联动的数控机床,整个磁悬浮列车施工蜿蜒段的技术要求便彻底达标。

这条二十公里的磁悬浮建设段,大有下半年就要完工启动测试的迹象。

沈永健这边对于磁悬浮所需的电力系统,也担心电力供应问题,进行了特高压输电线的研制。

不过研制工作才进行到一半,随着微电子厂如今L-3芯片出口产量的进一步扩大。

包括卓邵文处L-5芯片最终研制生产对工艺的更高要求。

沈永健还是暂时将特高压输电线放放,先把精力投入在光刻机上。

距离上一次光刻机改进,已是四年前。

步进式光刻机,在目前已经是极为先进的产品。

米方当下新一代的光刻机是投影光刻机,和国内的步进式光刻机算是同一代设备。

不过总的而言,还是国内步进式光刻机更为成熟,也是未来演进的方向。

沈永健翻看着微电子厂送来的使用反馈。

有一线光刻机操作员的反馈,也有技术维修相关工程师的反馈,同时还有份是自己学生薛福根的意见。

意见总共有几条,首先便是视野有限。

目前的光刻机对于L-3与L-4的几个延伸型号芯片,尤其是设计面积大的“大芯片”容易照不全。

需要将这块“大芯片”拆分成好几块拼接曝光。

而且工艺上曝光的边缘容易糊,不均匀。

多层套刻时,精度比较差,这也是目前新一代L-4芯片良品率上不去的主要原因。

沈永健眉头微蹙,从边上的档案袋内取出上一代的步进重复光刻机图纸。

脑中仔细回顾原先的设计思路,包括这些年对于光刻机的一些想法积累,很快便动笔规划起新图纸。

关于光刻机的几代演进方向,他心中一清二楚。

真要只是从设计考虑,他能发挥的空间很大,哪怕是后世接近现代化光刻机也并非不可能。

但考虑到现实的生产条件,最后还是摇了摇头,将步进重复光刻机先试着升级为步进扫描光刻机。

步进重复与步进扫描,其实都算是步进式光刻机,但两者性能差距不小。

传统的步进重复是“静止曝光”,而步进扫描则是“动态曝光”。

在曝光瞬间,掩模台和硅片台不再保持静止,而是按照精确的缩小比例进行同步反向移动。

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