如果对于这个论文不太熟悉的话,那么而这份设计方案还有一个名字。
光刻工厂!
是的,在王东来前世的时候,就曾经有过一段时间出现了铺天盖地的相关营销文章。
ASML打造小而精的光刻机,这是为了出口赚钱。
而华国作为被制裁的国家,地大物博,又不用出口,完全可以直接采用一种相反的研发理念。
那就是将光刻机进行扩大化。
从小小的一台光刻机,变成一个占地巨大的光刻工厂。
理想状态下的光刻机,一天24小时可以生产600×400颗芯片,也就是二十四万颗芯片,除去其中的次品之后,一天能剩下二十万颗左右。
但是,要注意到这是理想状态下。
实际上,一台光刻机的工作效率受到很多种因素的影响,包括光刻机的型号、工艺、晶圆大小、芯片尺寸和复杂度等。
不同型号的光刻机在光源系统、光学镜头、双工作台等方面的差异,直接决定了光刻机的分辨率、套刻精度和生产效率。
最后,理想状态下可以一天生产二十万合格芯片的光刻机,其实能够生产出来的芯片仅仅只有两万左右。
但是,如果换成光刻工厂的话,主打的就是一个量大实惠。
一次性可以生产的芯片,远远超过光刻机,不管是理想状态下的生产数量还是实际生产数量,都会暴打光刻机。
只是,在前世的时候,对于光刻工厂的真实性和可信性,根本没有得到学术界的承认。
王东来此世早就生出了这样的想法。
而在学习到了相关知识之后,王东来也明白了此事的难度。
理想很美好,现实很骨感。
想要完成光刻工厂的设想,难度极大。
绝对不比研发出一台高性能的EUV光刻机简单。
甚至,从某一种方面来说,难度还要更大。
然而,天才就是天才。
如果换成其他人的话,根本不可能有实现的可能性。
毕竟,将一款成熟的技术进行扩大化,可不是简单的扩大就行了。
要做到这一点,就必须要对该技术有极为深刻的了解和清楚的认知。
如此,才能将这个技术成功地扩大化,并应用在实际上。
等离子刻蚀机突破了,EDA设计软件成型了,先进设计方案也验证成功了,光刻胶也完成了。
现在,在半导体领域还差光学镜头、晶圆片、硅晶体等材料和设备了。
这些都很重要,可是,还远远比不上光刻设备的重要。
有着前世的记忆,王东来知道明年将会是一个新的开始。
白头鹰上台的那位商人头领,可不是一个好相与的。
手里挥舞着制裁大棒,可是给了全球狠狠一棒。
不过,这一棒对于国内还是有好处的,打蒙一部分人的同时,也打醒了一部分人。
抛开侥幸心理之后,国内在很多领域上都完成了突破,以国产取代进口。
王东来知道这件事,自然不会错过。
好风凭借力,送我上青云。
以他的能力,再加上大势相助,取得成功自然不是什么难题。
别看王东来此时在忙碌光刻工厂的事情,但是一点都不影响王东来听取娲的汇报。
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