熟知后事的卿云很清楚,程进说的是对的。
浸入式、浸没式、浸润式,其光源都是193nm激光器,随后是根据瑞利公式的另一个参数:孔径,来实现精度的提高。
再之后,便是二次曝光技术,同样是基于193nm的光源。
而最终,在DUV后,ASML还是走了波长13。5nm的EUV路径。
但那是十来年后的事情了。
彼时的ASML已经一家独大,它的领先优势可以随意切换赛道,但此时的光刻机市场却并非如此。
此时还是群雄混战时期,谁先突破,便是赢家通吃。
ASML与尼康佳能的光刻机之战,其实是一个弱者在走投无路之下,抱着‘光脚的不怕穿鞋的"的赌命心态进行绝地突围的故事。
ASML能赢,并不在于林本坚的技术有多先进,而是在于林本坚给出了一个商业友好性极强的工艺方案。
在ASML推出浸入式193nm产品的半年后,尼康也宣布自己的157nm产品以及EPL产品样机完成。
然而,林本坚的浸入式属于小改进大效果,产品成熟度非常高,所以几乎没有人去订尼康的新品。
而半导体产品就是这样的特点,市场说了算。
赢得了市场,赢得了迭代的机会。
他想了想,还是耐心说道,“老师,您知道,我是一个商人。
所以我习惯用商业的角度来看待问题。
”
拿起矿泉水抿了一口,卿云继续说着,“您说,从投入……或者说对当前工艺的改进角度看,走157nm还是走浸入式193nm容易?”
程进茫然的看着他,摇摇头表示不知道,“但是技术路径就在摆着啊,科研是要攻坚克难的。
”
卿云见状也只能无奈的耸了耸肩膀,“科研是科研的事,但作为一个企业家,我告诉你,我肯定选容易的。
有钱有市场我能继续出钱让科研研究下去,没钱我啥事都做不了。
”
程进闻言嘶了一声,他好像明白了点。
卿云哂然一笑,“我们想要追赶别人,最好的法子是什么?”
“弯道超车?”
程进嗤笑了一声,他表示,这个口号已经喊了20年了,至少在半导体产业来说,是越超越离世界顶尖水平越远。
卿云翻了一个白眼,“是让敌人陷入泥潭里。
”
他双手一摊,“193nm光刻工艺,全世界已经卡了20多年了,我们才刚刚起步,去年华电科45所才开始进行研究。
也就是说,从代际差距来看,此时我们和国际没太大区别,对吧?”
程进觉得自己牙齿有点疼。
特么的,要从这个角度说,确实没啥差距。
但特么的光刻机岂止是光源问题?
卿云见状笑了笑,“我知道差的还很远,但我们现在看得见对吧?但是如果他们走的慢一点,我们是不是差距就越小?
作为商人来说,197nm浸入式立刻可以实现65nm的生产,将现在130nm工艺直接提到半周期。
而走干式157nm,他们还需要从现在的130nm开始,连续走好几代才能达到65nm水平。
你说,作为商人,我怎么选?”
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