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第278章 郑齐光视察（第3页）
对花花枕头、外强中干的东西，天然抵制和反感。
所以场面不会宏大，但是绝对严谨有序、干净整洁。
情况介绍原本有专门人员担任。
但结合多重因素考虑，何融明更为合适。
毕竟只有他经历了两个阶段，能充分体现困顿中不屈、挣扎中昂扬的那份艰辛情感。
郑齐光一行抵达沪微电子。
先后与常乐、何融明以及研发人员代表一一亲切握手，表达关切、关心。
然后，在何融明介绍下，一一察看设备展厅、生产线，听取公司方面的发展情况。
郑齐光特意问到了公司目前的困难。
“主要的困难还是技术。”何融明没有避讳，这是共识：
“在Arf光刻基础上，我们有信心几年内攻克Arfi光刻。”
“但是EUV光刻积累较少，技术难题众多、面临巨大挑战。”
郑齐光继续问：“具体在哪方面？”
“比如说，极紫外光的产生、功率提升、部件寿命等诸多问题，需要突破光学物理学的边界；”何融明说道：
“物镜系统需要实现高分辨率、高聚焦深度和高传输效率，这需要精湛的光学工艺和材料技术；”
“工作台系统则需要克服稳定性、平整度等问题，确保能够承载高精度晶圆，并实现准确曝光……”
郑齐光提前做过功课，一听即明，点头说道：“是啊，你说的这些都已经进入到科技最前沿领域，困难不可避免。”
“而且，我也知道，先进光刻机研发，不是一家企业的问题，而是整条产业链的问题。”
“不过，我这次受领导委托，前来看望大家，就是要解决这个问题。”
他接着勉励沪微电子上下，一定要把握当前历史窗口期，坚持不懈，勇攀高峰，加快突破，切实提高产业、产品核心竞争力。
他交代魔都方面，“一定要在发展战略性新兴产业方面，做出表率！”
“要遵循集成电路产业的发展规律，把握住前期投入大、研发周期长、成果产出难等特点……”
“主动跨前做好服务，及时出台符合企业发展需求的配套政策……”
“提升产业基础集成化、链条化、现代化水平，不断缩小与先进水平差距，打造创新发展高地。”
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